OPTIMAL

Program: Horizont Európa

Celý názov projektu: Automated Maskless Laser Lithography Platform for First Time Right Mixed Scale Patterning

Koordinátor: JOANNEUM RESEARCH FORSCHUNGSGESELLSCHAFT MBH (Rakúsko)

Partneri: Centrum vedecko-technických informácií SR (pôvodne Medzinárodné laserové centrum) + ďalších 7 partnerských organizácií

Trvanie projektu: 01.10.2022 - 30.09.2026

Rozpočet CVTI SR: 470 500,00 EUR

Projekt OPTIMAL je 4-ročný projekt typu RIA (výzva HORIZON-CL4-2021-TWIN-TRANSITION-01).

Jeho hlavným cieľom je integrácia rôznych technológii laserovej litografie, systémov monitorovania kvality a procesov digitálnej úpravy dát v jednej platforme pre tvorbu mikroštruktúr. Laserové technológie na vytváranie štruktúr v rozsahu od nanometrov až po milimetrové veľkosti nachádzajú mnoho aplikácií pre kľúčové technológie, majú však aj viacero obmedzení, ako napr. limitovaná hĺbka štruktúr, malá plocha a nízka rýchlosť. Automatizáciou a zvýšením kvality laserovej litografie v projekte OPTIMAL sa zvýši efektivita a výťažnosť, zníži sa spotreba energie a materiálu, čo vo výsledku povedie k zníženiu nákladov a dodacích lehôt pre vytvárané mikroštruktúry.

Úlohou CVTI SR v projekte je koordinácia pracovného balíku WP3 zameraného na vývoj systému počítačového videnia a automatizácie pre monitorovanie a spätnú väzbu procesov v reálnom čase. Výsledky projektu budú demonštrované na konkrétnych prípadoch použitia pre priemyselných partnerov (optické šošovky, multifunkčné rebrové štruktúry, mikrofluidné čipy). V projekte sa zúčastňujú 4 výskumné inštitúcie a 5 priemyselných partnerov.